返回列表 发布新帖

GBT 14141-1993 硅外延层、扩散层和离子注入层薄层电阻的测定

17 0
admin 发表于 2024-9-22 23:54 | 查看全部 阅读模式
硅外延层、扩散层和离子注入层薄层电阻的测定
Testmethodforsheetresistanceofsiliconepitaxial,diffusedandion-implantedlayersusingacollinearfour-probearray

摘要:

标准编号:GB/T14141-1993
标准类型:CF
发布单位:CN-GB
发布日期:1993年1月1日
强制性标准:否
实施日期:1993年1月1日
关键词:硅,扩散,电阻测量,离子,外延层

GB/T 14141-1993 硅外延层、扩散层和离子注入层薄层电阻的测定.pdf
2024-9-22 23:54 上传
文件大小:
362.86 KB
下载次数:
0
附件售价:
1 下载券 [赞助会员免费下载]
本地下载 立即购买
【温馨提示】 您好!以下是下载说明,请您仔细阅读:
1、推荐使用360安全浏览器访问本站,选择您所需的PDF文档,点击页面下方“本地下载”按钮。
2、耐心等待两秒钟,系统将自动开始下载,本站文件均为高速下载。
3、下载完成后,请查看您浏览器的下载文件夹,找到对应的PDF文件。
4、使用PDF阅读器打开文档,开始阅读学习。
5、使用过程中遇到问题,请联系QQ客服。

本站提供的所有PDF文档、软件、资料等均为网友上传或网络收集,仅供学习和研究使用,不得用于任何商业用途。
本站尊重知识产权,若本站内容侵犯了您的权益,请及时通知我们,我们将尽快予以删除。
  • 手机访问
  • 联系QQ客服
2022-2024 新资汇 - 参考资料分享下载网站
关灯 返回顶部
快速回复 返回顶部 返回列表