[冶金] GBT 19444-2004 硅片氧沉淀特性的测定-间隙氧含量减少法

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admin 发表于 2024-9-22 22:26 | 查看全部阅读模式

硅片氧沉淀特性的测定-间隙氧含量减少法
Oxygenprecipitationcharacterizationofsiliconwafersbymeasurementofinterstitialoxygenreduction

摘要:本标准规定了由测量硅片间隙氧含量的减少量来检验硅片氧沉淀特性的方法原理、取样规则、热处理程序、试验步骤、数据计算等内容。本标准用于定性比较两批或多批集成电路用硅片间隙氧沉淀特性。

标准编号：GB/T19444-2004
标准类型：CF
发布单位：CN-GB
发布日期：2004年1月1日
强制性标准：否
实施日期：2004年1月1日
关键词：性能试验,性能,硅,emperformance,silicon,premises,performances,performancetesting,silicone,performancetests,performance

GB/T 19444-2004 硅片氧沉淀特性的测定-间隙氧含量减少法.pdf

2024-9-22 22:25 上传

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硅片, 间隙, 测定, 沉淀, 含量

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