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[冶金] GBT 24577-2009 热解吸气相色谱法测定硅片表面的有机污染物

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admin 发表于 2024-9-22 22:10 | 查看全部 阅读模式
热解吸气相色谱法测定硅片表面的有机污染物
Testmethodsforanalyzingorganiccontaminantsonsiliconwatersurfacesbythermaldesorptiongaschromatography

摘要:1.1本标准规定了硅片表面的有机污染物的定性和定量方法,采用气质联用仪或磷选择检测器或者两者同时采用。1.2本标准描述了热解吸气相色谱仪(TD-GC)以及有关样品制备和分析的相关程序。1.3本标准的检测限范围取决于被检测的有机化合物,比如碳氢化合物(C~C)的检测范围就是10g/cm~10g/cm。1.4本标准适用于硅抛光片和有氧化层的硅片。1.5本标准中包含了两种方法。方法A适用于切割后的硅片,方法B则适用于完整的硅片。两种方法的不同点在第7部分中有详细描述。

标准编号:GB/T24577-2009
标准类型:
发布单位:CN-GB
发布日期:2009年1月1日
强制性标准:否
实施日期:2010年1月1日
关键词:硅,化学分析和试验,半导体,污染物,含量测定,SILICON,SILICONE,CHEMICALANALYSISANDTESTING,SEMICONDUCTORS,CONTAMINANTS,POLLUTANTS

GB/T 24577-2009 热解吸气相色谱法测定硅片表面的有机污染物.pdf
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