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[冶金] GBT 24578-2009 硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法

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admin 发表于 2024-9-22 22:10 | 查看全部 阅读模式
硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法
TestmethodformeasuringsurfacemetalcontaminationonsiliconwafersbytotalreflectionX-rayfluorescencespectroscopy

摘要:本标准规定了硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法。本标准适用于N型和P型硅单晶抛光片、外延片等镜面抛光的硅片,尤其适用于清洗后硅片自然氧化层,或经化学方法生长的氧化层中沾污元素的面密度测定。本方法适用于测量面密度在(10~10)atoms/cm的范围的元素。本方法是非破坏性的。

标准编号:GB/T24578-2009
标准类型:
发布单位:CN-GB
发布日期:2009年1月1日
强制性标准:否
实施日期:2010年1月1日
关键词:半导体,硅,晶体,表面性质,荧光测定法,SEMICONDUCTORS,SILICON,SILICONE,CRYSTALS,SURFACEPROPERTIES,SURFACEPROPERTIES,FLUORIMETRY

GB/T 24578-2009 硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法.pdf
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