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GBT 26070-2010 化合物半导体抛光晶片亚表面损伤的反射差分谱测试方法
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发表于 2024-9-22 22:06
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化合物半导体抛光晶片亚表面损伤的反射差分谱测试方法
Characterizationofsubsurfacedamageinpolishedcompoundsemiconductorwafersbyreflectancedifferencespectroscopymethod
摘要:本标准规定了Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体单晶抛光片亚表面损伤的测试方法。本标准适用于GaAs、InP(GaP、GaSb可参照进行)等化合物半导体单晶抛光片亚表面损伤的测量。
标准编号:GB/T26070-2010
标准类型:
发布单位:CN-GB
发布日期:2011年1月1日
强制性标准:否
实施日期:2011年1月1日
关键词:半导体,半导体材料,损伤,单晶,抛光,SEMICONDUCTORS,SEMICONDUCTORMATERIALS,DAMAGE,SINGLECRYSTAL,POLISHING
GB/T 26070-2010 化合物半导体抛光晶片亚表面损伤的反射差分谱测试方法.pdf
2024-9-22 22:06 上传
GBT 26070-2010 化合物半导体抛光晶片亚表面损伤的反射差分谱测试方法.pdf
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