JCT 2133-2012 半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的测定 -电感耦合等离子体原子发射光谱法

半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的测定-电感耦合等离子体原子发射光谱法
Determinationofimpuritiesinsilicasolforpolishingsolutioninsemiconductorindustry.Inductivelycoupledplasmaatomicemissionspectrometricmethod

摘要:本标准规定了采用电感耦合等离子体原子发射光谱(ICP-AES)法测定半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的方法。本标准适用于半导体化学机械抛光(CMP)中抛光液用的各种硅溶胶。杂质元素包括：铝、钡、钙、铬、铜、铁、钾、镁、锰、钠、镍、钛、锌、锆等14种元素。

标准编号：JC/T2133-2012
标准类型：
发布单位：CN-JC
发布日期：2012年1月1日
强制性标准：否
实施日期：2013年1月1日
关键词：半导体,硅溶胶杂质元素,电感耦合,等离子体,建材,建筑材料

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