文档名：不同因素对电沉积镍钨合金镀层性能的影响
摘要：采用直流电沉积法在低碳钢表面制备了Ni–W合金镀层.通过单因素实验研究了钨酸钠质量浓度、温度、pH和阴极电流密度对镀速及镀层钨质量分数、内应力和抗高温氧化性能的影响,得到较优的工艺条件为:NiSO4?6H2O20g/L,Na2WO4?2H2O40g/L,C6H8O7?2H2O45g/L,H3PO410g/L,温度75°C,pH7.0,电流密度10A/dm2.在该条件下镀速为17μm/h,所得的Ni–W合金镀层平整致密,内应力为84MPa,与基体结合紧密,抗高温氧化性能良好.
作者：赵显蒙 李长青 鞠辉 孙淑伟 Author：ZHAOXianmeng LIChangqing JUHui SUNShuwei
作者单位：中国人民解放军32178部队,北京100012湖南纳菲尔新材料科技股份有限公司,湖南长沙410000
刊名：电镀与涂饰 ISTICPKU
Journal：Electroplating&Finishing
年，卷(期)：2023, 42(5)
分类号：TQ153.2
关键词：镍-钨合金 电沉积 镀速 内应力 抗高温氧化
机标分类号：TG174.44TQ153TB383
在线出版日期：2023年4月3日
基金项目：不同因素对电沉积镍?钨合金镀层性能的影响[
期刊论文] 电镀与涂饰--2023, 42(5)赵显蒙 李长青 鞠辉 孙淑伟采用直流电沉积法在低碳钢表面制备了Ni–W合金镀层.通过单因素实验研究了钨酸钠质量浓度、温度、pH和阴极电流密度对镀速及镀层钨质量分数、内应力和抗高温氧化性能的影响,得到较优的工艺条件为:NiSO4?6H2O20g/L,Na2WO4?...参考文献和引证文献
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