文档名：工艺参数对化学机械抛光磷锗锌晶体表面粗糙度的影响
摘要：针对高能领域对磷锗锌(ZGP)晶体表面粗糙度达到亚纳米级的要求,提出一套完整的ZGP晶体加工工艺.首先用内圆切割机将ZGP晶体切成7mm×7mm×15mm的长方体;然后根据对比实验,选取最佳磨粒(金刚石)粒径为5μm,用机械研磨的方法使晶体的表面粗糙度(Sa)降至150nm左右;随后基于化学机械抛光(CMP)技术,设计了粗抛光(采用3μm的金刚石悬浮液作为抛光液)和精抛光(SiO2体系)两道工序,通过单因素实验确定了最佳抛光时间均为1h,并通过正交试验得到如下优化的精抛光工艺:SiO2粒径0.05μm,SiO2质量分数8％,H2O2质量分数3％,pH=9,抛光压力17.24kPa,抛光转速13.5r/min,抛光液流量300mL/min.最终得到表面粗糙度为0.106nm的超光滑ZGP晶体.
作者：聂清清 付思源 梅斌 孙守利 阳红Author：NIEQingqing FUSiyuan MEIBin SUNShouli YANGHong
作者单位：中国工程物理研究院机械制造工艺研究所,四川绵阳621900
刊名：电镀与涂饰 ISTICPKU
Journal：Electroplating&Finishing
年，卷(期)：2023, 42(7)
分类号：TH16
关键词：磷锗锌晶体 切割 研磨 化学机械抛光 表面粗糙度 正交优化
机标分类号：O782TN248.1TN304.26
在线出版日期：2023年4月28日
基金项目：工艺参数对化学机械抛光磷锗锌晶体表面粗糙度的影响[
期刊论文] 电镀与涂饰--2023, 42(7)聂清清 付思源 梅斌 孙守利 阳红针对高能领域对磷锗锌(ZGP)晶体表面粗糙度达到亚纳米级的要求,提出一套完整的ZGP晶体加工工艺.首先用内圆切割机将ZGP晶体切成7mm×7mm×15mm的长方体;然后根据对比实验,选取最佳磨粒(金刚石)粒径为5μm,用机械研磨的方...参考文献和引证文献
参考文献
引证文献
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