文档名：化学气相沉积HfO2涂层的制备及性能
摘要：采用化学气相沉积(CVD)法在难熔金属Mo表面制备厚约8μm的HfO2涂层.通过HSCChemistry软件从热力学角度探究CVDHfO2的反应过程,分析HfO2涂层的微观形貌、择优生长情况和纳米力学性能,测试涂层与基体的结合力及抗热震性.结果表明:HfO2涂层与基体结合良好,在经历25～2000℃,100次循环热震后涂层表面未出现宏观剥落;划痕法测定的涂层附着力约23N;在2.5～5μm波段,涂层表面平均发射率为0.48,将Mo在该波段的平均发射率提高了近5倍.
Abstract：HfO2coatingswithathicknessofapproximately8μmwerepreparedontherefractorymetalsMosurfacebyusingchemicalvapordeposition(CVD),andthereactionprocessofCVDHfO2wasthermodynamicallyanalyzedbyHSCChemistry.Themicroscopicmorphology,self-orientedgrowthandnanomechanicalpropertiesofHfO2coatingswereanalyzed,andthebondingforceofthecoatingswiththesubstrateandthermalshockresistanceweretested.TheresultsshowthattheHfO2coatingiswellbondedtothesubstrate,andnomacroscopicflakingoccursonthesurfaceofthecoatingafter100cyclesofthermalshockfrom25℃to2000℃;theadhesionofthecoatingisabout23Nasdeterminedbythescratchtest;theaverageemissivityofthesurfaceofthecoatingis0.48inthebandof2.5-5μm,whichimprovestheaverageemissivityofMointhebandbynearly5times.
作者：何锐朋 朱利安 王震 叶益聪 李顺 唐宇 白书欣Author：HERuipeng ZHULi'an WANGZhen YEYicong LIShun TANGYu BAIShuxin
作者单位：国防科技大学空天科学学院,长沙410073
刊名：材料工程 ISTICEIPKU
Journal：JournalofMaterialsEngineering
年，卷(期)：2024, 52(5)
分类号：TG146TB333
关键词：化学气相沉积 氧化铪涂层 热力学计算 发射率 抗热震性
Keywords：CVD hafniumoxidecoating thermodynamiccalculation emissivity thermalshockresistance
机标分类号：G633.8TQ175TG174.44
在线出版日期：2024年7月3日
基金项目：国家自然科学基金，湖南省创新型省份建设专项化学气相沉积HfO2涂层的制备及性能[
期刊论文] 材料工程--2024, 52(5)何锐朋 朱利安 王震 叶益聪 李顺 唐宇 白书欣采用化学气相沉积(CVD)法在难熔金属Mo表面制备厚约8μm的HfO2涂层.通过HSCChemistry软件从热力学角度探究CVDHfO2的反应过程,分析HfO2涂层的微观形貌、择优生长情况和纳米力学性能,测试涂层与基体的结合力及抗热震性.结...参考文献和引证文献
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