返回列表 发布新帖

基于门控循环单元强化学习的晶圆光刻区实时调度方法研究

8 0
admin 发表于 2024-12-14 11:17 | 查看全部 阅读模式

文档名:基于门控循环单元强化学习的晶圆光刻区实时调度方法研究
摘要:为求解具有动态性、实时性、多约束、多目标特点的晶圆光刻区调度问题,提出一种基于门控循环单元强化学习的晶圆光刻区实时调度方法.设计引入门控循环单元学习光刻区历史调度决策与状态的时序信息,为双深度强化学习模型提供辅助决策信息;设计双深度强化学习模型的输入状态空间、输出动作集,并面向晶圆最小化最大完工时间和晶圆准时交货率指标设计多目标奖励函数,为智能体优化调度输出;设计设备专用性约束与掩模版约束的解约束规则与调度方法相结合,提高调度方案实施的实用性.通过某晶圆制造企业实际算例,将该方法与传统双深度强化学习和光刻区启发式规则方法比较,该方法均为最优,证明了其解决此问题的有效性.

Abstract:Toaddresstheschedulingproblemofwaferphotolithographyarea,characterizedbydynamicnature,real-timerequirements,multipleconstraints,andmultipleobjectives,areal-timeschedulingmethodbasedongatedrecurrentunit(GRU)reinforcementlearningisproposed.ThismethodincorporatesGRUtolearnthetemporalinformationofhistoricalschedulingdecisionsandstatesinthephotolithographyarea,providingauxiliarydecision-makinginformationforthedoubledeepreinforcementlearning(DDRL)model.TheinputstatespaceandoutputactionsetoftheDDRLmodelaredesigned,andamulti-objectiverewardfunctionisestablishedwiththeobjectiveofminimizingthemaximumcompletiontimeofwafersandmaximizingtheon-timedeliveryrate,optimizingtheschedulingoutputbyintelligentagents.Additionally,constraintrelaxationrulesandschedulingmethodsareproposedcombiningequipment-specificconstraintsandmaskconstraints,toenhancethepracticalityofschedulingstrategies.Throughempiricalevaluationusingreal-worldcasesfromawafermanufacturingenterprise,thismethodiscomparedwithtraditionaldoubledeepreinforcementlearningandheuristicrulemethodsforphotolithographyarea,demonstratingitssuperiorityandverifyingitseffectivenessinsolvingthisproblem.

作者:吴立辉   石津铭   金克山   张洁 Author:WULihui   SHIJinming   JINKeshan   ZHANGJie
作者单位:上海应用技术大学机械工程学院,上海201400东华大学人工智能研究院,上海201620
刊名:工业工程 ISTIC
Journal:IndustrialEngineeringJournal
年,卷(期):2024, 27(3)
分类号:F426.4TP391
关键词:晶圆制造系统  光刻区调度  深度强化学习  门控循环单元(GRU)  多目标  
Keywords:waferfabricationsystem  schedulingofphotolithographyarea  deepreinforcementlearning  gatedrecurrentunit(GRU)  multi-objective  
机标分类号:TP301.6TP18TP242
在线出版日期:2024年7月18日
基金项目:国家重点研发计划,上海应用技术大学引进人才科研启动项目基于门控循环单元强化学习的晶圆光刻区实时调度方法研究[
期刊论文]  工业工程--2024, 27(3)吴立辉  石津铭  金克山  张洁为求解具有动态性、实时性、多约束、多目标特点的晶圆光刻区调度问题,提出一种基于门控循环单元强化学习的晶圆光刻区实时调度方法.设计引入门控循环单元学习光刻区历史调度决策与状态的时序信息,为双深度强化学习模型提供...参考文献和引证文献
参考文献
引证文献
本文读者也读过
相似文献
相关博文

        基于门控循环单元强化学习的晶圆光刻区实时调度方法研究  Real-time Scheduling of Wafer Photolithography Area Based on Reinforcement Learning with Gated Recurrent Unit

基于门控循环单元强化学习的晶圆光刻区实时调度方法研究.pdf
2024-12-14 11:17 上传
文件大小:
1.2 MB
下载次数:
60
高速下载
【温馨提示】 您好!以下是下载说明,请您仔细阅读:
1、推荐使用360安全浏览器访问本站,选择您所需的PDF文档,点击页面下方“本地下载”按钮。
2、耐心等待两秒钟,系统将自动开始下载,本站文件均为高速下载。
3、下载完成后,请查看您浏览器的下载文件夹,找到对应的PDF文件。
4、使用PDF阅读器打开文档,开始阅读学习。
5、使用过程中遇到问题,请联系QQ客服。

本站提供的所有PDF文档、软件、资料等均为网友上传或网络收集,仅供学习和研究使用,不得用于任何商业用途。
本站尊重知识产权,若本站内容侵犯了您的权益,请及时通知我们,我们将尽快予以删除。
  • 手机访问
    微信扫一扫
  • 联系QQ客服
    QQ扫一扫
2022-2025 新资汇 - 参考资料免费下载网站 最近更新浙ICP备2024084428号
关灯 返回顶部
快速回复 返回顶部 返回列表