文档名：利用吸合电极实现亚微米电极间隙的可制造性设计
摘要：提出一种利用吸合电极结构的可制造性设计手段,实现亚微米电极间隙的方法.利用静电力拉动可动电极位移实现超出光刻和刻蚀能力的超窄间隙,使得敏感电极间隙由1.3μm减小至300nm,通过该方法获得的亚微米电极间隙对工艺离散性不敏感,电极间隙的不一致性可以下降1个数量级.结合本文提出的I2BAR结构的可制造性设计方法,可以实现完整的微机电系统(MEMS)振荡器可制造性设计.
Abstract：Arealizationmethodforsubmicronelectrodegapbyusingthemanufacturabilitydesignofpull-inelectrodestructureisproposed.Themovableelectrodedisplacementispulledbyusingelectrostaticforce,ultranarrowgapsbeyondthelithographyandetchingabilityareachieved,sothatthesensitiveelectrodegapcanbereducedfrom1.3μmto300nm.Thesubmicronelectrodegapachievedbythismethodisnotsensitivetotheprocessdispersion,andtheinconsistencyofelectrodegapcanbereducedbyanorderofmagnitude.CombinedwiththemanufacturabilitydesignmethodoftheproposedI2BARstructure,acompletemanufacturabilitydesignofMEMSoscillatorcanberealized.
作者：郑超越 孙珂 钟朋 王放 杨恒 Author：ZHENGChaoyue SUNKe ZHONGPeng WANGFang YANGHeng
作者单位：中国科学院上海微系统与信息技术研究所传感技术联合国家重点实验室,上海200050;中国科学院大学,北京100049中国科学院上海微系统与信息技术研究所传感技术联合国家重点实验室,上海200050
刊名：传感器与微系统
Journal：TransducerandMicrosystemTechnologies
年，卷(期)：2024, 43(1)
分类号：TN303TP212
关键词：吸合电极结构 可制造性设计 亚微米电极间隙 工艺离散性 微机电系统振荡器
Keywords：pull-inelectrodestructure manufacturabilitydesign submicronelectrodegap processdiscreteness MEMSoscillator
机标分类号：
在线出版日期：2024年1月17日
基金项目：利用吸合电极实现亚微米电极间隙的可制造性设计[
期刊论文] 传感器与微系统--2024, 43(1)郑超越 孙珂 钟朋 王放 杨恒提出一种利用吸合电极结构的可制造性设计手段,实现亚微米电极间隙的方法.利用静电力拉动可动电极位移实现超出光刻和刻蚀能力的超窄间隙,使得敏感电极间隙由1.3μm减小至300nm,通过该方法获得的亚微米电极间隙对工艺离...参考文献和引证文献
参考文献
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