文档名：硫酸钴浓度对电沉积CoWP薄膜结构与磁性能的影响
摘要：在20#钢基体上电沉积Co-W-P薄膜,并研究镀液中硫酸钴浓度对Co-W-P薄膜的结合强度、结构、成分、厚度和磁性能的影响.结果表明:Co-W-P薄膜与20#钢基体结合紧密,随着硫酸钴浓度从5g/L增至25g/L,Co-W-P薄膜的结构和物相无明显变化,但平均晶粒尺寸呈现先减小后增大的趋势,Co元素的质量分数呈现先升高后降低的趋势,导致不同Co-W-P薄膜的致密性和磁性能存在差异.当硫酸钴浓度为15g/L时,Co-W-P薄膜的平均晶粒尺寸仅为40.6nm,Co元素的质量分数达到64.19％,具有最大的矫顽力(932A/m)和饱和磁化强度(100.7A·m2·kg-1),其结构致密并且展现出良好的磁性能.在一定范围内硫酸钴浓度的增加,降低了成核过电位,使晶粒细化且结合紧密,同时提高了钴还原沉积效率,使Co元素的质量分数升高.研究表明:晶粒细化、致密性改善以及磁性元素的协同作用进一步提高了Co-W-P薄膜的磁性能.
作者：刘文彦 魏媛 虞正鹏 陈欢欢 李帅东 Author：LiuWenyan WeiYuan YuZhengpeng ChenHuanhuan LiShuaidong
作者单位：荆州理工职业学院,湖北荆州434000荆州学院,湖北荆州434200
刊名：电镀与精饰 ISTICPKU
Journal：Plating&Finishing
年，卷(期)：2023, 45(10)
分类号：TQ153
关键词：Co-W-P薄膜 电沉积 硫酸钴浓度 结构 磁性能
Keywords：Co-W-Pthinfilm electrodeposition concentrationofcobaltsulfate structure magneticperformance
机标分类号：TG1O484.1TB383
在线出版日期：2023年11月10日
基金项目：湖北省教育厅基金项目硫酸钴浓度对电沉积Co-W-P薄膜结构与磁性能的影响[
期刊论文] 电镀与精饰--2023, 45(10)刘文彦 魏媛 虞正鹏 陈欢欢 李帅东在20#钢基体上电沉积Co-W-P薄膜,并研究镀液中硫酸钴浓度对Co-W-P薄膜的结合强度、结构、成分、厚度和磁性能的影响.结果表明:Co-W-P薄膜与20#钢基体结合紧密,随着硫酸钴浓度从5g/L增至25g/L,Co-W-P薄膜的结构和物相无明...参考文献和引证文献
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