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真空镀膜技术在功能粉体中的应用及产业化展望

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admin 发表于 2024-12-11 23:22 | 查看全部 阅读模式

文档名:真空镀膜技术在功能粉体中的应用及产业化展望
利用真空镀膜技术可以实现粉体表面包覆、粉体表面改性以及粉体制备.计算分析了真空镀膜法粉体包覆时粉体粒径与真空镀膜装备设计、工艺参数之间的关系,认为通过倾斜滚动或者中间筛网方法,可实现任何粒径粉体的均匀表面包覆镀膜.利用等离子体辅助气相沉积技术制备了纳微米片碳粉体,利用光学显微镜、原子力显微镜、拉曼光谱、比表面测试仪等分析了该纳微米片碳粉体的组成、结构及比表面积,通过浸渍法加载催化活性物质并测试了其加氢催化性能.随着3D打印、粉末冶金、注射成型等现代粉体加工技术的发展与精度要求的提高,以及高性能功能粉体在油墨、发光、显示、LED、催化、工模具、热学、能源等方面的关键作用,通过真空镀膜技术获得高性能功能粉体越来越多的成为消费电子、航空航天、军工科研等所有材料相关高技术领域关注的热点.
作者:罗志明李国军李迎春李国栋杨武保
作者单位:东莞市汇成真空科技有限公司,广东东莞523838
母体文献:粤港澳大湾区真空科技与宽禁带半导体应用高峰论坛暨2017年广东省真空学会学术年会论文集
会议名称:粤港澳大湾区真空科技与宽禁带半导体应用高峰论坛暨2017年广东省真空学会学术年会  
会议时间:2017年12月1日
会议地点:广东惠州
主办单位:广东省科协,广东省真空学会
语种:chi
分类号:TB4TN3
关键词:功能粉体  真空镀膜  等离子体辅助气相沉积  加氢催化性能
在线出版日期:2021年3月22日
基金项目:
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2024-12-11 23:22 上传
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