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水清洗工艺在系统级封装制程中的应用

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admin 发表于 2024-12-11 16:13 | 查看全部 阅读模式

文档名:水清洗工艺在系统级封装制程中的应用
文章阐述了半导体封装行业的发展,摩尔定律及超越摩尔定律时代,半导体大体经历了通孔型插装时代、表面贴装器件时代、面积表面阵列封装和高密度封装时代四个阶段,目前主流集成封装技术正处于第二、第三表面封装时代,3D叠装、3DTSV等三维封装技术主要处于研发阶段.
作者:張彥平
作者单位:KEDtech
母体文献:2018中国系统级封装大会论文集
会议名称:2018中国系统级封装大会  
会议时间:2018年10月17日
会议地点:上海
主办单位:博闻创意会展(深圳)有限公司,深圳先进电子材料国际创新研究院
语种:chi
分类号:TN4TM5
关键词:半导体器件  系统级封装  水清洗工艺
在线出版日期:2022年3月25日
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2024-12-11 16:13 上传
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