文档名：浅议国内外超净高纯氢氟酸工艺技术差异
集成电路是资本密集、技术密集型行业,同时又长期遵循着著名的“摩尔定律”,对企业在技术实力和研发投入上有着严苛的要求,相应的对原料蚀刻剂超净高纯氢氟酸产品质量也有苛刻要求.本文从市场需求方面引出国内企业与国外企业的超净高纯氢氟酸质量差异,又详细对比分析了国内企业和国外企业执行标准的差异和原因以及工艺技术制备的差异,末尾结合集成电路的市场状况说明了中国超净高纯氢氟酸制备的发展趋势,以此来促进国内半导体产业的发展.
作者：刘海霞
作者单位：多氟多化工股份有限公司
母体文献：中国无机盐工业协会氟化工分会2017年年会论文集
会议名称：中国无机盐工业协会氟化工分会2017年年会
会议时间：2017年9月1日
会议地点：江西新余
主办单位：中国无机盐工业协会
语种：chi
分类号：F42G35
关键词：氢氟酸 生产工艺 环境洁净度 设备材质
在线出版日期：2020年11月30日
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