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溅射靶材概述

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admin 发表于 2024-12-11 00:34 | 查看全部 阅读模式

文档名:溅射靶材概述
本文简要介绍了靶材的主要性能要求、制备工艺、应用分类和发展概况.用加速的离子轰击固体表面,离子和固体表面原子交换动量,使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面,这一过程称为溅射。被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的源(Source)材料,通常称为靶材。平面靶材的制备工艺主要包括熔炼铸造法和粉末烧结法.旋转靶材的制备工艺主要包括挤压、等离子喷涂和粉末烧结。
作者:吴丽君
作者单位:北京合纵天琦新材料科技有限公司
母体文献:珠三角光电产业与真空科技创新论坛暨2016年广东省真空学会学术年会论文集
会议名称:珠三角光电产业与真空科技创新论坛暨2016年广东省真空学会学术年会  
会议时间:2016年12月1日
会议地点:广州
主办单位:广东省真空学会,广东省振兴科技基金会
语种:chi
分类号:TM3S73
关键词:溅射靶材  性能标准  制造工艺  应用分类
在线出版日期:2020年5月31日
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