溅射靶材概述

文档名：溅射靶材概述
本文简要介绍了靶材的主要性能要求、制备工艺、应用分类和发展概况.用加速的离子轰击固体表面，离子和固体表面原子交换动量，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，这一过程称为溅射。被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的源(Source)材料，通常称为靶材。平面靶材的制备工艺主要包括熔炼铸造法和粉末烧结法.旋转靶材的制备工艺主要包括挤压、等离子喷涂和粉末烧结。
作者：吴丽君
作者单位：北京合纵天琦新材料科技有限公司
母体文献：珠三角光电产业与真空科技创新论坛暨2016年广东省真空学会学术年会论文集
会议名称：珠三角光电产业与真空科技创新论坛暨2016年广东省真空学会学术年会  
会议时间：2016年12月1日
会议地点：广州
主办单位：广东省真空学会,广东省振兴科技基金会
语种：chi
分类号：TM3S73
关键词：溅射靶材  性能标准  制造工艺  应用分类
在线出版日期：2020年5月31日
基金项目：
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