文档名：化学机械双面抛光消除石英玻璃亚表面损伤的研究
本文研究了化学机械双面抛光消除石英玻璃亚表面损伤的关键工艺与技术.利用碱性抛光液对石英玻璃的侵蚀作用与纳米SiO2磨料对石英玻璃表面的微切削作用相结合,在双面抛光机台上对石英玻璃表面进行化学机械抛光,考察了抛光液过滤装置与pH值在抑制亚表面损伤方面的作用;提出一种阶梯抛光刻蚀法测定石英玻璃亚表面损伤层的深度.实验结果表明,在抛光系统中添加抛光液过滤装置,可以有效避免抛光液中大颗粒杂质对石英玻璃表面及亚表面造成的损伤,提高抛光液pH值,能够提高抛光去除速率并抑制亚表面微裂纹的产生,实现石英玻璃表面材料原子级的柔性去除,达到了消除石英玻璃亚表面损伤的目的.
作者：张晓强宋学富孙元成杜秀蓉王慧
作者单位：中国建筑材料科学研究总院,石英与特种玻璃研究院,北京100024
母体文献：2017年全国玻璃科学技术年会论文集
会议名称：2017年全国玻璃科学技术年会
会议时间：2017年8月27日
会议地点：秦皇岛
主办单位：中国硅酸盐学会
语种：chi
分类号：TN3TP2
关键词：石英玻璃 化学机械双面抛光 亚表面损伤 工艺优化
在线出版日期：2021年3月22日
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