文档名：光耦合胶体射流抛光单晶硅表面
为了实现超光滑无损伤表面的高效制造,提出利用在紫外光场与胶体射流动压场耦合作用下纳米颗粒(10nm-40nm)与被加工工件表面间的光化学反应、界面化学反应以及胶体射流产生的剪切粘滞作用实现工件表面材料的亚纳米级去除的方法.在紫外光诱导纳米颗粒胶体射流进行超光滑表面加工的过程中,紫外光的光化学作用对胶体射流中纳米颗粒与工件表面间的界面反应进行充分的激励和强化,从而很大程度提高材料表面原子的去除率,提高超光滑表面制造的效率.
作者：宋孝宗 戴旭杰 高贵 王宏刚
作者单位：兰州理工大学机电工程学院,甘肃兰州730050兰州理工大学机电工程学院,甘肃兰州730050;中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室,兰州730000中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室,兰州730000
母体文献：第十九届中国磨粒技术学术会议论文集
会议名称：第十九届中国磨粒技术学术会议
会议时间：2017年8月1日
会议地点：哈尔滨
主办单位：中国机械工程学会
语种：chi
分类号：
关键词：单晶硅 纳米颗粒 胶体射流 光化学作用 界面反应
在线出版日期：2021年12月15日
基金项目：
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