文档名：光刻胶在LCD中的应用简介
LCD液晶显示器是目前最主要的显示器,广泛应用于手机、电脑、电视等方面.LCD主要由Array基板、CF基板、液晶以及偏光片等组成,在Array和CF基板制作过程中广泛应用到光刻胶.光刻胶是指通过紫外光、准分子激光束、电子束、离子束、X射线等曝光源的照射或辐射,使其溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料.根据反应机理的不同,光刻胶可以分为正性光刻胶和负性光刻胶.正性光刻胶在光照作用下,其曝光区域发生分解反应,光刻胶的溶解度增大,显影时可以被洗掉,未曝光部分不溶于显影液而保留,形成与掩膜一致的图像;负性光刻胶则相反,曝光区域发生聚合反应,光刻胶从易溶的变成不溶或者难溶的,显影后曝光区域保留,未曝光部分被洗掉,形成与掩膜相反的图像.本文将简要的介绍Array和CF基板制作过程使用到的正性光刻胶和负性光刻胶.
作者：辛阳阳邹应全
作者单位：北京师范大学化学学院,北京100190
母体文献：中国感光学会2017年学术年会暨第九届五次理事会论文集
会议名称：中国感光学会2017年学术年会暨第九届五次理事会
会议时间：2017年8月1日
会议地点：昆明
主办单位：中国感光学会
语种：chi
分类号：TN3TN4
关键词：液晶显示器 阵列基板 CF基板 光刻胶
在线出版日期：2020年10月26日
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