文档名：光刻胶用底部抗反射涂层研究进展
随着微电子工业的蓬勃发展,集成电路向着更高分辨率的方向迈进,运用底部抗反射涂层有效地消除光刻胶技术中的驻波效应、凹缺效应,提高临界尺寸均一性和图案分辨率,引起了广大研究者的关注.本文简要介绍了光刻胶和光刻技术,底部抗反射涂层的分类、基本原理、刻蚀工艺以及其发展状况.重点对底部抗反射涂层的最新研究进展进行了总结,尤其是碱溶型底部抗反射涂层在光刻胶中的应用研究.最后对底部抗反射涂层的发展前景和方向进行了展望.
作者：王宽 刘敬成 刘仁 穆启道 郑祥飞 纪昌炜 刘晓亚
作者单位：江南大学化学与材料工程学院无锡214122苏州瑞红电子化学品有限公司苏州215124
母体文献：2015全国非银盐成像材料及光刻胶发展论坛论文集
会议名称：2015全国非银盐成像材料及光刻胶发展论坛
会议时间：2015年11月19日
会议地点：苏州
主办单位：中国感光学会
语种：chi
分类号：TN3TN4
关键词：光刻胶 光刻技术 底部抗反射涂层 碱溶型涂层
在线出版日期：2017年12月4日
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