文档名：高真空束线镀膜系统的研制
本文详细介绍了高真空束线镀膜系统,该系统有杭州赛威斯真空技术有限公司研制,用于在6英寸或以下尺寸的的硅片,或其他相应尺寸的基底上连续化沉积各类薄膜,包括但不限于磁控溅射,热蒸发,有机物蒸发,电子束蒸发等常规镀膜形式,同时也可以在同一生产过程中,增加其他处理过程,如等离子清洗过程,高温退火过程等.该设备可用于6寸硅片的大规模高精度生产,可以实现在不破坏真空的情况下实现从清洗到镀膜再到退火的全部过程.
作者：金炯
作者单位：杭州赛威斯真空技术有限公司,杭州,312581
母体文献：第十四届长三角科技论坛暨第十届华东真空学术交流会论文集
会议名称：第十四届长三角科技论坛暨第十届华东真空学术交流会
会议时间：2017年10月1日
会议地点：上海
主办单位：上海市真空学会,江苏省真空学会,安徽省真空学会,浙江省真空学会
语种：chi
分类号：TM2TL6
关键词：真空束线镀膜系统 硬件结构 软件设计
在线出版日期：2021年3月22日
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