文档名：沉积靶棒表面洁净度控制工艺探讨
当前制造光纤预制造的主流方法有OVD法和MMD法,这两种方法都需要使用芯棒制作成沉积靶棒,且对沉积靶棒的表面洁净度有非常高的要求,靶棒表面洁净度不良会影响光纤强度质量.本文将探讨光纤预制棒沉积靶棒表面洁净度控制的工艺.
作者：林志伟吴钧储银君
作者单位：浙江富通光纤技术有限公司
母体文献：光纤材料产业技术创新战略联盟一届七次理事会暨技术交流会论文集
会议名称：光纤材料产业技术创新战略联盟一届七次理事会暨技术交流会
会议时间：2017年10月31日
会议地点：湖北荆州
主办单位：纤材料产业技术创新战略联盟
语种：chi
分类号：V22TQ1
关键词：光纤预制棒 沉积靶棒 表面洁净度 火焰抛光
在线出版日期：2020年7月9日
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