文档名：单晶蓝宝石基片超精密抛光技术研究进展
介绍了作为LED衬底材料使用的蓝宝石基片抛光方法的进展.通过各种抛光技术所依靠的机械能、化学能、复合能和特种能场等的不同能场形式分析了当前不同蓝宝石基片抛光技术,如浮法抛光、磁流变抛光、水合抛光、化学机械抛光和激光抛光等的工艺原理和技术特点,指出当前现有加工方法的优缺点和发展进程.目前蓝宝石衬底的抛光质量已达到表面粗糙度为0.1nm,平面度为0.5um.随着机械表面界面科学和加工工艺的不断进步,数字化、全自动和环境友好型的抛光技术是未来蓝宝石衬底加工的发展方向.
作者：罗求发陆静徐西鹏
作者单位：华侨大学脆性材料加工技术教育部工程研究中心厦门361021;华侨大学制造工程研究院厦门361021
母体文献：第七届全国机械工程博士论坛论文集
会议名称：第七届全国机械工程博士论坛
会议时间：2015年12月1日
会议地点：广西柳州
主办单位：中国工程机械学会
语种：chi
分类号：
关键词：蓝宝石基片 抛光工艺 表面粗糙度 质量控制
在线出版日期：2020年10月26日
基金项目：
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