文档名：氮化硅瓷片超精密加工实验
本文采用铜基研磨盘对氮化硅瓷片进行研磨加工实验,再用自行研制的动态磁场集群磁流变抛光装置进行磁流变抛光实验,达到了预期效果.原始表面粗糙度Ra404nm的氮化硅瓷片,经研磨5分钟,再抛光2h后,表面粗糙度达到4.56nm.
作者：肖晓兰阎秋生郭明亮熊强
作者单位：广东工业大学机电工程学院广州510006
母体文献：第十九届中国磨粒技术学术会议论文集
会议名称：第十九届中国磨粒技术学术会议
会议时间：2017年8月1日
会议地点：哈尔滨
主办单位：中国机械工程学会
语种：chi
分类号：TQ1TN1
关键词：氮化硅瓷片 研磨加工 磁流变抛光 表面粗糙度
在线出版日期：2021年12月15日
基金项目：
相似文献
相关博文
- 文件大小:
- 815.58 KB
- 下载次数:
- 60
-
高速下载
|
|
