文档名：低辐射银膜的团聚形貌与成分偏聚
针对磁控溅射法制备的离线低辐射(Low-E)银基多层膜,采用场发射扫描电镜的背散射电子像(BSE)结合能谱面扫描分布研究银膜受热产生的团聚形貌与团聚生长导致的成分再分布.结果表明,BSE形貌中的白亮区域为银原子聚集的富银区,相比之下,灰暗区域为贫银区.通过观察随热处理时间延长团聚的形貌变化,并由形貌与成分的对应关系来判断团聚形成过程中银原子的运动轨迹,进而获得银膜团聚的生长规律.最终,通过测试方块电阻随热处理时间的变化,掌握了银膜团聚程度与导电性能的对应关系.
作者：孙瑶王永斌汪洪
作者单位：中国建筑材料科学研究总院、国家玻璃深加工工程技术中心、绿色建筑材料国家重点实验室,北京100024
母体文献：2015年全国玻璃科学技术年会论文集
会议名称：2015年全国玻璃科学技术年会
会议时间：2015年4月24日
会议地点：江苏宿迁
主办单位：中国硅酸盐学会
语种：chi
分类号：
关键词：离线低辐射镀膜玻璃 银基多层膜 团聚形貌 成分再分布 磁控溅射法 导电性能
在线出版日期：2016年5月23日
基金项目：
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