文档名：多层膜光栅传递标准样品的抛光技术研究
多层膜光栅传递标准是计量和表征纳米尺度器件线宽小于50nm的有效工具,光栅样品的制备主要包括镀膜、切割、胶合、抛光和选择性刻蚀.抛光技术对于光栅样品截面的粗糙度有着较大的影响,而粗糙度是影响多层膜光栅能否作为传递标准的一个重要因素.采用不同的抛光方式,利用原子力显微镜(AFM)对其截面进行表征,通过优化抛光技术不断降低截面的粗糙度,制备出了粗糙度小于1nm的样品.
作者：赵阳程鑫彬李同保
作者单位：同济大学物理科学与工程学院,上海200092
母体文献：上海市激光学会2015年学术年会论文集
会议名称：上海市激光学会2015年学术年会
会议时间：2015年12月1日
会议地点：上海
主办单位：上海市激光学会
语种：chi
分类号：O43TH7
关键词：多层膜光栅 抛光技术 粗糙度
在线出版日期：2016年9月23日
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