ITO靶材溅射结瘤行为研究.pdf
本研究采用具有较高相对密度(97％以上)的ITO靶材作样品,进行磁控溅射毒化实验;利用X-射线衍射(XRD)、X-射线光电子能谱(XPS)、扫描电子显微镜(SEM)、X射线能量色散谱仪(EDS)等表征检测手段分别对比了ITO靶材样品在溅射前后ITO靶材的微观组织、物相变化、元素分布,以及对结瘤状态与原因进行了分析研究.结果表明:靶材毒化的主要与靶材中的孔洞及ITO靶材的晶粒大小密切相关.
作者：何季麟孙本双舒永春陈杰杨淑敏赵旭梁鹏
作者单位：郑州大学河南省资源与材料工业技术研究院,河南郑州450001
母体文献：中国工程院化工、冶金与材料工程第十二届学术会议论文集
会议名称：中国工程院化工、冶金与材料工程第十二届学术会议
会议时间：2018年10月28日
会议地点：郑州
主办单位：中国工程院,河南省人民政府
语种：chi
分类号：TQ4TF7
关键词：铟锡氧化物薄膜 磁控溅射 结瘤状态 物相变化
在线出版日期：2021年7月19日
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