镶嵌薄膜结构的Helmholtz共振腔吸声特性分析

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为了提高Helmholtz共振腔低频吸声性能,提出了一种内部镶嵌薄膜的Helmholtz共振腔吸声结构,结合薄膜的隔声特性和共振腔的吸声特性进行了分析.通过调节薄膜的厚度和表面张力来改变薄膜的共振频率,使其和共振腔相互耦合,在低频产生更丰富的吸声特性.结果表明:在不改变Helmholtz共振腔几何构造的情况下,单腔共振腔镶嵌薄膜可以产生多个吸声峰值.
作者：刘怡然李丽君孙振永孙丰山
作者单位：山东理工大学,山东淄博255049
母体文献：2017中国西部声学学术交流会论文集
会议名称：2017中国西部声学学术交流会  
会议时间：2017年8月1日
会议地点：呼和浩特
主办单位：中国声学学会,上海市声学学会,四川省声学学会,山东省声学学会,重庆市声学学会,西安市声学学会
语种：chi
分类号：
关键词：Helmholtz共振腔  镶嵌薄膜结构  共振频率  隔声特性  吸声特性
在线出版日期：2020年11月30日
基金项目：
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