SEM图像的畸变参数分析与矫正.pdf
高精度扫描电子显微镜(SEM)图像在材料形貌观察、生物研究、微器械设计、微纳尺度力学行为研究等方面具有广泛的应用.微纳米尺度下材料和结构的变形分析,强调精准的图像定位和尽可能精细的无畸变成像,其原因在于成像对象及其变形的尺度极其微小,且微纳米尺度下材料的力学行为不仅受到应变的作用,也受到应变梯度等高阶变形量的影响.然而,SEM成像过程为逐点扫描,过程中存在热漂移、电磁漂移、压电陶瓷蠕变等,与此同时,聚焦电子束过程中所使用的电磁透镜也存在透镜畸变等问题,这些畸变将给试件变形前后附加虚假的应变场和应变梯度场,给微纳米尺度下精确成像带来困难.本文针对SEM成像的上述问题,提出了一种新的漂移和畸变矫正方法,并与FIB刻蚀标准点阵图形试样的SEM图像进行对比,以测试矫正结果的有效性.在图像矫正的同时,本方法也可以得到实验仪器本身的性能参数.
作者：金鹏李喜德
作者单位：清华大学航天航空学院,100084
母体文献：北京力学会第二十二届学术年会论文集
会议名称：北京力学会第二十二届学术年会
会议时间：2016年1月9日
会议地点：北京
主办单位：北京力学会
语种：chi
分类号：TN9TP3
关键词：图像处理 显微成像 漂移校正 畸变矫正
在线出版日期：2019年8月12日
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