紫外氯胺高级氧化体系中有机微污染物的去除

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有机微污染物(OMPs)对饮用水水质的威胁已受到广泛的关注.升级现有的饮用水消毒工艺,使之成为可以高效去除OMPs的高级氧化体系成为国内外研究的热点.其中,耦合紫外消毒与氯胺消毒的UV/NH2Cl体系是极具前景的工艺之一.目前针对UV/NH2Cl体系的研究非常有限,严重阻碍了其在水处理设施中的应用.因此,本研究揭示了UV/NH2Cl体系的反应机制,并且建立了一个可预测不同水质条件下不同种类OMP的降解规律的综合模型.
作者：孟坛孙佩哲
作者单位：天津大学环境科学与工程学院,天津300072
母体文献：第三届全国水处理与回用学术会议论文集
会议名称：第三届全国水处理与回用学术会议  
会议时间：2019年3月29日
会议地点：广州
主办单位：中国环境科学学会
语种：chi
分类号：TU5TQ6
关键词：饮用水  紫外消毒  氯胺消毒  高级氧化  有机微污染物  降解规律
在线出版日期：2022年9月21日
基金项目：
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2024-11-30 21:25 上传 紫外氯胺高级氧化体系中有机微污染物的去除.pdf

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