文档摘要：为了以较低成本的技术提高磁控溅射沉积薄膜的纯度、致密性和均匀性,设计出一种可以活化氧气的双腔室直流加热灯丝型辅助离子源.通过实验改变辅助离子源的工作参数,探究其对磁控溅射镀膜机所沉积薄膜的光学参数的影响.通过对比不同工艺条件下所沉积薄膜的透过率、折射率、基板上膜层不同位置的相对厚度,最终证明设计提出的辅助离子源可以一定程度改善Ta2O5和SiO2单层镀膜的透过率、折射率以及均匀性,提升了原磁控溅射镀膜机的镀膜质量和有效镀膜面积,对提高镀膜生产效率具有一定指导意义.
Abstract：Inordertoimprovethepurity,compactnessanduniformityofmagnetronsputteringdepositedfilmsatalowercost,adual-chamberDCheatingfilamentauxiliaryionsourcewasdesignedwhichcanactivateoxygen.Theworkingparametersoftheauxiliaryionsourcewerechangedintheexperimenttoexploretheirinfluenceontheopticalparametersofthefilmsdepositedbymagnetronsputteringcoater.Bycomparingthetransmittance,refractiveindexandrelativethicknessofthefilmswhichwasdepositedunderdifferentprocessingconditions,itisfinallyprovedthattheauxiliaryionsourcedesignedinthisworkcanimprovethetransmittance,refractiveindexanduniformityofthesingle-layerfilmsofTa2O5andSiO2whichwascoatedinthisexperiment.Thus,thecoatingqualityandeffectivecoatingareaoftheoriginalmagnetronsputteringcoatingmachineareimproved,anditdoeshavecertainpracticalsignificanceforimprovingtheefficiencyofthecoating.
作者：任翼 张殷 周亚东 金尚忠 Author：RenYi ZhangYin ZhouYadong JinShangzhong
作者单位：中国计量大学光学与电子科技学院,浙江杭州310018苏州岚创科技有限公司,江苏苏州215151
刊名：电镀与精饰 ISTICPKU
Journal：Plating&Finishing
年，卷(期)：2024, 46(7)
分类号：O484
关键词：离子源 结构设计 离子束辅助沉积(IBAD) 光学薄膜
Keywords：ionsource structuraldesign ionbeamassisteddeposition(IBAD) opticalthinfilm
机标分类号：O484.5TN253TP212
在线出版日期：2024年7月10日
基金项目：国家科学自然基金项目灯丝型辅助离子源的设计及其对薄膜参数的改善研究[
期刊论文] 电镀与精饰--2024, 46(7)任翼 张殷 周亚东 金尚忠为了以较低成本的技术提高磁控溅射沉积薄膜的纯度、致密性和均匀性,设计出一种可以活化氧气的双腔室直流加热灯丝型辅助离子源.通过实验改变辅助离子源的工作参数,探究其对磁控溅射镀膜机所沉积薄膜的光学参数的影响.通...参考文献和引证文献
参考文献
引证文献
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关键词：离子源,结构设计,离子束辅助沉积(IBAD),光学薄膜,
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